Litografi makinelerinde, optik sistem, devre kalıplarının maruz kalmasını sağlamak için ışık kaynağının silikon gofret üzerine yaydığı ışık ışınının odaklanması ve yansıtılmasından sorumludur. Bu nedenle, litografi sistemlerinde optik bileşenlerin tasarımı ve optimizasyonu, litografi makinelerinin performansını arttırmak için çok önemlidir.
Projeksiyon lensi
Bir litografi makinesindeki projeksiyon lensi tipik olarak dışbükey lensler, içbükey lensler ve prizmalar dahil olmak üzere bir dizi lensten oluşur. Işlevi, ışık kaynağının yaydığı ışık ışınını odaklamak ve projelendirmektir. Bir litografi makinesinde, projeksiyon lensi maskedeki devre desenini belirli bir ölçekte azaltır ve daha sonra foto-kaplamalı gofret üzerine odaklanır.
Optik hizalama sistemi
Bir litografi makinesindeki optik hizalama sistemi öncelikle fotomaske ve silikon gofret arasındaki hizalama doğruluğunu sağlamak için kullanılır. Litografi işlemi sırasında, ekipman ve malzemelerdeki hatalar, fotomaske ve silikon gofret arasındaki konumsal sapmalara neden olabilir, bu da desen şekillerinde bozulma veya uyumsuzluğa yol açabilir. Bu nedenle, hizalama sistemi, litografi işlemi sırasında yüksek hassasiyetli hizalama ve görüntüleme sağlayarak ölçmek ve ayarlamak için referans aynalar, standart lensler ve optik kodlayıcılar gibi hassas optik bileşenler kullanır.
Optik lensler
Optik aynalar: Aynalar ışık yolunun yönünü değiştirmek için litografi makinelerinde kullanılır, ışığı doğru konuma yönlendirir. Aynaların yüzey doğruluğu ve stabilitesi, litografi makinesinin performansını önemli ölçüde etkiler.
Işın ayırıcılar:Işın ayırıcılar, tek bir ışık ışınını çoklu ışınlara ayıran optik bileşenlerdir. Birden fazla paralel kiriş üretmek için litografi makinelerinde kullanılırlar ve birden fazla çipin eşzamanlı olarak maruz kalmasını sağlar.
Iztings: ıztings, ışığı birden fazla alt kirişe bölen ve faz ve genliklerini kontrol eden optik bileşenlerdir. Karmaşık desenler ve yapılar oluşturmak için litografi makinelerinde kullanılırlar.
Filtreler:Filtreler, istenmeyen ışık dalga boylarını filtrelemek, litografinin hassasiyetini ve kalitesini arttırmak için kullanılır.